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  氧化鈰拋光粉(VK-Ce01)拋光粉因具有切削能力強,拋光效率高,拋光精度高,拋光質量好,操作環境清潔,污染小,使用壽命長等優點,而在光學精密拋光和CMP等領域占有極其重要的地位。

  氧化是基本性質:

  二氧化鈰,又稱氧化鈰,為鈰的氧化物,此時鈰的化合價為+4價,化學式為CeO2。純品為白色重質粉末或立方體結晶,不純品為淺黃色甚至粉紅色至紅棕色粉末(因含有微量鑭、鐠等)。常溫、常壓下,二氧化鈰是鈰的穩定氧化物。鈰還能形成+3價的Ce2O3,其不穩定,會和O2生成穩定的CeO2。氧化鈰微溶于水、堿和酸。密度7.132 g/cm3,熔點2600℃,沸點3500℃ 。

  氧化鈰的拋光機制

  CeO2顆粒的硬度并不高,如下表所示,氧化鈰的硬度遠低于金剛石、氧化鋁,也低于氧化鋯和氧化硅,與三氧化二鐵相當。因此僅從機械方面來看,以低硬度的氧化鈰去拋光基于氧化硅的材料,如硅酸鹽玻璃、石英玻璃等,是不具有技術可行性的。但是氧化鈰卻是目前拋光基于氧化硅材料甚至氮化硅材料的首選拋光粉。可見氧化鈰拋光還具有機械作用之外的其他作用。常用研磨、拋光材料的硬度材料金剛石在CeO2晶格中通常會出現氧空位使得其理化性能發生變化,并對拋光性能產生一定的影響。常用的氧化鈰拋光粉中均含有一定量的其他稀土氧化物,氧化鐠(Pr6O11)也為面心立方晶格結構,可適用于拋光,而其他鑭系稀土氧化物沒有拋光能力,它們可在不改變CeO2晶體結構的條件下,在一定范圍內與之形成固溶體。對高純納米氧化鈰拋光粉(VK-Ce01)而言,氧化鈰(VK-Ce01)的純度越高,拋光能力越大,使用壽命也增加,特別是硬質玻璃和石英光學鏡頭等長時間循環拋光時,以使用高純度的氧化鈰拋光粉(VK-Ce01)為宜。


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