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常見問題
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  氧化鈰拋光粉(VK-Ce01)拋光粉因具有切削能力強,拋光效率高,拋光精度高,拋光質量好,操作環境清潔,污染小,使用壽命長等優點,而在光學精密拋光和CMP等領域占有極其重要的地位,其主要應用于以下領域:

  1. ?眼鏡、玻璃鏡片拋光;

  2. 光學鏡頭、光學玻璃、透鏡等;

  3. 手機屏玻璃、手表面(表門)等;

  4. ?液晶顯示器各類液晶屏;

  5. ?水鉆、燙鉆(發卡,牛仔褲上的鉆石)、燈飾球(大型大廳內的豪華吊燈);

  6. ?水晶工藝品;

  7.?部分玉石的拋光

  目前氧化鈰拋光的衍生:

  氧化鈰表面摻鋁以顯著提高其拋光光學玻璃,因為通過多組分元素的復合可以調諧粒子性能 , 并通過表面修飾來提高拋光漿料的分散穩定性和拋光效率。摻雜 TiO2 的 CeO2粉體的制備和拋光性能 , 可以使拋光效率提高工作效率 50%以上 , 同時 , 表面缺陷也降低 80%。 CeO2 ZrO2 , SiO2 2CeO2 復合氧化物的協同拋光效果 ;因此 , 摻雜氧化鈰微納米復合氧化物的制備技術對于發展新型拋光材料,探討拋光機制具有非常重要的意義。除了摻雜量外 , 摻雜物在合成粒子中的狀態和分布對其表面特性和拋光性能的影響也非常大 。

  其中,具有包覆態結構的拋光粒子的合成更加引人矚目。因此,合成方法及條件的選擇也非常重要,尤其是那些簡單易行成本又低的方法 。以水合碳酸鈰為主要原料,采用濕固相機械化學法來合成鋁摻雜氧化鈰拋光粒子。在機械力作用下,水合碳酸鈰大顆粒可以被解理成細小顆粒,而硝酸鋁則與氨水反應形成無定形的膠體粒子。這種膠體粒子易于附著在碳酸鈰顆粒上,經干燥和煅燒,可以在氧化鈰表面實現鋁的摻雜。采用這種方法合成了不同鋁摻雜量的氧化鈰粒子,并對其拋光性能進行了表征,適量鋁摻入氧化鈰粒子表面后,將導致表面電位負值的增大,進而使磨料顆粒間存在更強的靜電斥力,促進磨料懸浮穩定性提高。與此同時,磨料粒子與帶正電荷的軟質層之間的通過庫侖引力的相互吸附作用也將加強,有利于磨料與被拋玻璃表面軟質層的相互接觸 , 促進拋光速率的提高。


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